一轉眼就是十幾天過去。
天氣來到了盛夏。
即便是這片身處龍國東北區域的土地，也變得炎熱起來。
這十幾天裡。
江野腦海中【知識殿堂】內的一千多份資料早已經換了一輪。
處理的專案簡報也有過百份之多。
而在這個過程中，他也逐漸搞懂了關於光刻廠專案的詳細細節。
......
光刻廠，本質上是將一臺精密的光刻機進行宏觀化。分佈化。巨型化的建築群級系統。
在這個系統內部一共有四個核心的系統。
光源系統，陣列系統，測量和控制系統，環境和支撐系統。
這四個系統並非是相互獨立的。
其中很多技術和理論都是相互交叉你中有我的關係，這也是為什麼光刻廠專案的部門名稱都是光學xx之類的。
其中難度最高也是最為複雜的，是陣列系統。
江野之前所瞭解的光的四重摺射難題，就是陣列系統中的一個子課題。
而之前光刻廠那座發生爆炸事故，將寧未未炸傷的建築。
也是一個由透鏡組成的巨大光學元件陣列。
在光刻廠專案內部被稱為透鏡森林。
光刻廠的專案開始於七年前，實際上，在雷多來訪龍國之前，整個專案幾乎已經接近百分之百的成功了。
雖然還達不到大規模投產的水準。
但是小規模地試產晶元，已經是毫無阻礙。
只不過隨著燈塔國串通內部間諜的一場陰謀，讓透鏡森林原地蒸發，所有人的工作功虧一簣。
而更要命的是。
在這個過程中，光刻廠專案也發現了原本採用的透鏡組有致命缺點——
用來調整光學元器件精度的奈米級促動器對於參考光的反饋精度不足。
因此才會被別人稍微一動引數，就直接引動了不可逆的光壓爆炸。
這不是技術力高低的問題。
而是在當前的現代科學程序，人類就沒有捕獲該等級反饋光精度的能力！
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