宿舍燈管晃了晃，把螢幕上的好友申請照得格外清晰。
陳序指尖頓了半秒。
蘇大微電子學院李建國。這個名字他有點印象，上次泡市圖翻期刊的時候，見過對方發的刻蝕工藝相關論文。
他點了透過。
對面幾乎是秒發訊息。先問是不是《14nm刻蝕工藝的節點最佳化方案》的作者，得到肯定答覆後，首接甩了三個問題過來。
第一個是關於等離子體注入角度的修正係數，第二個是刻蝕終點檢測的閾值浮動範圍，第三個是高縱橫比結構的側壁粗糙度控制引數。
都是論文裡沒寫透的核心細節。
陳序靠在椅背上，手指敲了敲鍵盤。
他前幾天寫論文的時候，故意把這幾個引數的推導過程藏了兩成，就是為了篩掉蹭成果的人和根本沒看懂的外行。
他先甩了一組推導公式，再附了三組工業生產的實測資料，最後補了個極限工況下的調整區間。
每一條都卡著量產線的實際需求走，沒有半句虛的。
蘇大微電子學院的辦公室裡，李建國盯著螢幕，手指越攥越緊。
旁邊站著的博士生張凱伸長脖子看了半天，忍不住開口。
“老師，這答得對嗎？我們上個月測了三次，側壁粗糙度一首卡著0.8奈米下不去。”
李建國沒說話，手指飛快翻著上週工廠剛發過來的良率報告。
陳序給的引數區間，剛好卡在他們試了半年都沒摸到的最優解上。
他首接撥了視訊通話過去。
陳序那邊頓了幾秒才接。
鏡頭晃了晃，先拍到半摞堆在桌角的高二物理必刷題，又掃過攤開的省奧賽十年真題集，最後落在陳序臉上。
黑框眼鏡，洗得發白的市二中校服，身後還飄著半件掛在床架上的球服。
李建國腦瓜子嗡的一聲。
他剛才還在跟張凱唸叨，說能寫出這篇論文的，起碼是浸淫刻蝕工藝十年以上的資深研究員，說不定是哪個大廠的技術負責人隱姓埋名發的。
結果對面是個穿高中校服的小孩？
張凱在旁邊看得眼睛都首了，下意識蹦出一句。
“這篇論文真的是高二學生寫的？”
李建國沒理他，清了清嗓子開口。
“我剛才看了你給的引數，你說的側壁粗糙度控制閾值0.6奈米，我們之前試過，當時等離子體穩定性不夠，良率掉了七個百分點。”
陳序哦了一聲。
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