梁景徽一身簡約工裝，眼底帶著連日攻堅後的疲憊。
卻藏著難以掩飾的滾燙光芒，手中緊緊攥著一疊厚重的技術驗收報告與裝置實測資料表。
每一頁都標註著密密麻麻的專業引數、除錯記錄、效能校驗結果。
作為華創半導體公司CEO，他算是最不被大家認可的。
因為沒有任何成就在。
很多人把梁景徽當騙子，以為他就是這樣當上子公司CEO的。
而公司也只有核心技術人才，才明白光刻機有多難。
知道梁景徽真的不容易。
過去大半年時間，他帶領數十名頂尖技術人員，隱於幕後，日夜攻堅，紮根在枯燥精密的光刻技術研發中，只為突破國外數十年的技術封鎖。
“蘇總。”
梁景徽走到辦公桌前，難掩激動，聲音都帶著一絲不易察覺的顫抖，這是技術攻堅者突破極限，圓夢時刻的由衷動容。
“驗收結果全部出來了，資料百分百達標！”
蘇誠抬眼，目光落在他手中的報告上，神色平靜，沉穩問道：“全部達標？詳細說說。”
梁景徽重重點頭，將報告平鋪在桌面，指尖精準點在核心引數欄，逐項彙報，底氣十足的說著：
“我們自主復刻研發的193nm ArF光源乾式步進掃描式光刻機，所有核心部件、光學系統、精密工作臺、對準控制系統、雷射光源模組，全部實現國產化自研自產。
無任何海外技術依賴，無任何進口零部件！
整機曝光精度、掃描穩定性、良品率、連續工作時長，全部對標海外同期商用主流裝置。
關鍵引數甚至小幅超越，經過七十二小時不間斷滿負荷實測，裝置執行穩定，線寬控制精準，完全具備量產使用條件。”
2007年的國內半導體行業，光刻機領域完全處於被卡脖子的被動局面。
國內僅有少數老舊光刻裝置，精度落後，穩定性差。
高階193nm級別光刻機完全被海外壟斷，嚴禁對華出口，技術壁壘高到近乎無法逾越。
在此之前，國內無數科研院所，國企大廠投入巨資，耗時數年攻堅，始終無法突破193nm光刻的核心技術瓶頸，只能在低端製程徘徊。
而華創，一家成立不足1年，以智慧手機出圈的民營科技公司，悄無聲息完成了國家級的技術突破。
這絕非簡單的裝置仿製，而是徹底吃透光學原理、精密機械控制、雷射光源調校、光刻工藝適配的全套底層技術，是真正意義上的國產自主可控！
梁景徽深吸一口氣，壓下心中的激動，繼續彙報後續規劃，眼神無比堅定：
“而且我們團隊在乾式機型攻堅過程中，徹底吃透了193nm ArF光源的全套技術邏輯。基於現有技術積累，193nm ArF光源浸潤式光刻機的技術路徑己經完全打通，核心難點全部攻克！”
他簡單解釋其中的技術跨度，讓蘇誠清晰知曉突破的含金量：
“乾式機型是以空氣為介質，是193nm光刻的基礎版本。
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