題目很長，佔了整整一頁紙。
【某實驗小組為探究投影光刻系統的分辨能力，搭建了簡化光刻實驗裝置：採用波長為λ的單色平行光作為曝光光源，透過數值孔徑為 NA的投影物鏡，將掩模上的精細圖案投影到塗有光刻膠的晶圓表面，實現晶片圖案的轉移。
光刻系統的最小分辨線寬（可清晰區分的兩條相鄰線條的最小間距）遵循瑞利判據：
δ= 0。61λ/NA
其中數值孔徑 NA = n?sinθ，n為物鏡與晶圓之間介質的折射率，θ為物鏡能接收的最大光線的半孔徑角。
完成下列問題：】
這題一共三個問題，前兩問可能成績稍微好點的學生就能做出來，甚至都不用學霸。
但是第三題，你說他難吧，確實有奧賽難度，但不是頂尖的那種。
可是他的重點不是解出來，而是怎麼解出來才最好。
李東下意識的抬頭看了看四周。
此時距離考試結束還有四十分鐘，大部分考生都還在抓耳撓腮地對付前面的計算題。
他旁邊的那個考生，看著年紀特別小，頂多也就是高一的樣子，此刻正咬著筆桿，對著這最後一道題發呆，卷子上大片空白。
「現在的小孩都這麼捲了嗎？高一就來參加這種比賽？」
李東心裡吐槽了一句，隨後收回目光，看向試卷。
前面兩問李東提筆就寫。
【1。求該光刻系統的最小分辨線寬δ?】
解：由瑞利判據公式δ= 0。61λ/NA，代入資料λ=436nNA=0。35。
δ?≈ 0。76μ
【2。寫出兩種工業界常規的技術方案，並簡述物理原理。】
這個闡述題，其實考的是學生的知識面，如果你整天讀死書，那還真不一定知道。
不過李東在啃大物的時候，就有了解過相關的知識了。
他甚至還專門在網上找了新聞來看。
一個是用縮短波長的方案，比如使用DUV深紫外光之類的。
原理也很簡單，就是δ與λ成正比。
另一個就是增大數值孔徑了，比用如用浸沒式光刻。
原理則是利用水等介質提高折射率n，從而增大NA。
前兩問做完，李東停在了第三問上。
【3。請你基於高中物理波動光學（干涉與衍射）的核心知識，設計一種無需更換更短波長光源。無需使用投影物鏡，即可突破上述瑞利分辨極限的創新方案。】
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】：證驗破突【
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……鐘分五十剩還
