不過好像是真的沒李東有面子,至少現在是。
「那就麻煩周主任了。」
……
此時此刻,考場內。
只剩下最後四十分鐘了。
李東坐在座位上,看著試卷的最後一頁,眼神很複雜。
他一直覺得自己為了改變命運,在群裡披著馬甲薅那些科學巨匠的羊毛,已經算是挺不要臉的行為了。
但是,今天看了華軒科技出的這道壓軸題,李東才知道,什麼叫「資本的厚顏無恥」!
【某半導體裝置企業正在研發 28n藝節點量產型浸沒式光刻系統,核心要採用 193nArF準分子雷射光源,區域性浸沒式成像架構,在投影物鏡最後一片鏡片與晶圓表面之間,填充折射率 n=1。44的超純水作為成像介質,以提升系統解析度和成像精度。
系統工作時,晶圓臺以勻速直線掃描完成整片晶圓曝光,曝光雷射的能量會在浸沒液中產生區域性瞬態溫升,進而引發成像誤差。】
某半導體企業?到底是哪個半導體企業呢?好難猜呀。
看完這個背景,再看問題。
李東的眼角都開始抽搐了。
【請你設計一套配套的成像誤差即時補償方案,需同時滿足以下所有硬性指標:
補償精度:可將浸沒介質折射率波動帶來的曝光線寬誤差,控制在±1。2n內;
響應速度:補償延遲≤1,可適配晶圓臺≥1200/s的勻速掃描速度;
抗干擾能力:補償效果不受浸沒液瞬態溫度波動。流速擾動。溶解氣體含量變化的影響;
結構約束:方案不得改動現有曝光光學系統的核心結構與引數,不得改變浸沒介質的成分與基礎物性,無任何與晶圓表面直接接觸的部件。
量產要求:方案核心部件可標準化批次生產,單套系統物料成本≤100萬元人民幣。】
「呵呵。」
這題如果是說人話的話就是:
我們國威裝備現在在搞浸沒式光刻機。
然後遇到點小問題。
水被雷射加熱以後,什麼折射率變了呀,什麼光路歪了呀,所以良品率崩了。
我們呢,是養一大幫百萬年薪的頂尖光學博士和流體力學專家。
但是!他們好像不太會。
所以,我們就想讓你們這群連大學校門都沒進的高中生,來試試能不能用不超過一百萬塊錢的成本,幫我把這個問題給秒了?
「好不要臉!」
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