《被迫登頂福布斯的那些年》第401章 收購之路(2)

作者:大先生吃土豆·3個月前

「有。」陳學兵點頭道:「相關論文還沒有面世,不過我這裡有2006年12月IED國際電子器件會議)的影像資料,臺積電介紹了半個多小時,我可以發給你,以後你想要什麼半導體資料找我就行了,有專人給我搜集。」

「那太好了!」辛夢真有些迫不及待,「是怎麼曝光的?居然能繞過單次曝光的解析度限制?」

雙重曝光若變為四重曝光,那就是開啟新制程大門的鑰匙!

「這個。有個公式,我給忘了,大概就是解析度不夠的情況下光的衍射效應會導致圖案變得模糊不清,但透過晶片圖案拆分,用兩次曝光來完成光刻,降低每次曝光圖案的密度的話,就能避免感光的相互干擾。重迭,然後透過奈米級精度的對準,確保兩次曝光的圖案能完美拼合,達到圖案密度加倍的效果不過對裝置精度要求很高。」

「哦」辛夢真想通了一些關鍵,神色沉了沉:「那如果要照這個方式進行四次曝光,光套刻誤差就要翻兩倍了。」

她家裡是做代工的,精密裝置瞭解得不少,自然知道自動化儀器精密度要提升兩倍,起碼要好幾年的時間,甚至十來年。

陳學兵亦輕笑:「當然,這方法良率太低了,如果沒有工業精度突破,往下曝光的成本核爆式增長,要完成四次曝光,應該需要更精密的方式吧,這玩意也不是什麼超越製程限制的魔法,頂多只是材料技術和精密技術的另一種表現。」

用多重曝光的方式往下追製程,同樣需要時代的整體進步,光刻膠多次曝光後膠體龜裂,掩膜版精度夠不夠細,DUV精度能不能對齊,FinFET工藝能否整合,有沒有對應制程的EDA軟體來拆分晶片設計圖,哪一步都是大坎。

不過有這個路徑,總比EUV製造簡單多了,如果能持續搞到最新版套刻精度的DUV,便可以跟著先進世代屁股後面玩到7奈米,甚至是5奈米。

他不斷查閱技術資料,找人給他解釋,對光刻機原理逐漸明瞭,前世的一些散碎認知更加清晰了。

只是多重曝光這個升級方向還要晶圓廠來完成,能暗中搞到先進DUV的中芯國際最近好像也焦頭爛額,03年剛上市就被臺積電告了一遭,05年頂不住了,庭外和解賠了1。75億美元,結果去年又被告了,索賠更高,還要股份。

這次還要求張汝京下課。

張汝京是個好人。

甚至是個偉大的人,脫離了低階趣味的人,為中國半導體奠基的人。

但陳學兵也只能在心裡為他唱緬了,他是希望張汝京早點在官司中落敗退出來的,臺積電不徹底和解,總是惦記著他,中芯國際的多重曝光之路就很難走。

畢竟雙重曝光是臺積電的專利。

IED錄影他看得明明白白,臺積電把原理講得很細,雙重曝光技術需要光刻機。光刻膠。EDA工具。量測裝置等整個供應鏈的配合,他們在積極推動雙重曝光產業鏈的發展,完成技術成熟度。

既然敢讓大家Know-How,就肯定圍繞該技術的核心創新點申請了大量。嚴密。根本繞不過去的專利。

前世臺積電和中芯國際的重大和解09年才達成,張汝京辭職,之後臺積電才給了中芯國際一系列有限制的付費專利許可,要是沒有這一步,中芯國際想玩這個連法律保障都沒有。

他得抽空找張汝京談一談,張汝京若實在不願意退,他好像就只能另起爐灶了。

…這就更難了。

中芯國際一直在建廠,發展到現在有四座晶圓廠,能來大陸的相關人才基本都挖完了,他想建一座起來,起碼要兩年。

這不還是得等09年了?

還是請他退吧。

陳學兵思緒之中,辛夢真忽然起身下床,墊著腳尖從工作手提包裡拿出一張紙回來。

「既然你有人蒐集資料,那…這個,你幫我查查。」

陳學兵接過。

是幾行手寫的字。

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