既沒有出去對著來人進行客套的講話，也沒有做陣前動員。
直接就對著工作人員吩咐道：「開始吧！」
隨著王東來這一聲令下。
電閘頓時合上。
輻射光源也逐漸開始執行起來。
晶片的誕生，要經歷的流程很多。
而光刻就是晶片製造至關重要的一個環節。
光刻技術最早於1958年開始應用，並實現了平面電晶體的製造，也是IC製程中最重要的模組。
光刻的過程是在矽片表面上勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移到光刻膠上的過程，是將器件或電路結構臨時「複製」到矽片上的過程。
光刻在整個矽片加工成本中幾乎佔三分之一。
光刻佔40%到50%的流片時間，它決定晶圓最小特徵尺寸。
半導體矽片在進行光刻之前有一系列清洗。塗光刻膠等過程，光刻後還有顯影。清洗等工藝。
這一次的技術驗證，自然不可能從最開始的環節開始。
前期的材料自然是早就準備好了，單晶矽棒已經被切割成了薄片。
這一點，國內的單晶矽和晶圓片，也已經取得了一定的突破。
值得多提一句的是，這一次使用的正是來自魔都新勝半導體生產的。
至於設計者張如京也在今年從魔都新勝半導體離職，加入了銀河科技。
除了張如京的加入，還有梁松等多位大佬的加入。
這些大佬的加入，也極大地幫助了王東來在這方面的突破。
不然的話，除非是發展機器人，採取黑燈工廠模式，用媧來全面接管，才能這麼順利完成。
而要是這麼做的話，所展現出來的人工智慧就太驚人了，所以王東來根本就沒有這麼想過。
所幸，有了這些大佬的加入，這方面的研發也有了很大的進步。
王東來能說出年底能進行技術驗證的一部分底氣，便是這些大佬。
這一次的光刻工廠專案，因為引起了海外半導體巨頭的惡意針對，所以從銀河科技單獨製造，變成了舉國之力攻克。
在很多地方，也打亂了王東來的設計。
同時，也節省了王東來很多的功夫。
畢竟，國內的半導體技術再落後，那也是有的。
一些細分領域的技術，比之國際頂尖水平，也只是稍差一點罷了。
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