已經成型16位模組化，帶完整作業系統與硬碟字型檔的商用微型計算機，徹底輾壓了國內仍然在攻堅分立元件和8位簡易單板機。
（實際上沒有，純屬自己人嚇唬自己人的惡作劇，虧是秘密戰線不懂行，不然也要心累）
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那麼此刻，新開馬甲“攻城獅”透過秘密戰線，遞送到滬江市光學儀器廠、無線電專用裝置廠、元件五廠和光學機械廠這幾個重點光學光刻機研究單位的半導體與光刻機完整技術藍圖，徹底顛覆了數十位國內頂尖光學、精密機械、微電子專家在現有研發認知和當下攻堅方向。
這是一份來自於小日子舉國攻關vl（超大規模積體電路）最前沿，也是最重要的技術路線圖。
這意味著鬼子們的家底被偷了！（仍舊不是真相）
封閉式保密會議室晝夜燈火通明，窗簾全部密閉，外面站滿了武裝保衛人員，連只蒼蠅飛進來也必須有通行證，翅膀都搜一下有沒有夾帶，這是最高規格的保密程度。
長桌兩側，國內光學精密加工、光刻裝置、半導體器件、晶圓工藝的頂尖骨幹與老泰斗悉數在座，看著掛在牆上，放大擴寫後由硫酸紙複製的全球光刻裝置迭代完整路線圖。
沒有模糊的猜想，沒有空泛的理論，從光刻技術的最初技術原點，條理嚴密和層層遞進的一直推理到未來的概念性方向。
每一代裝置的技術原理、光源迭代、工藝節點、晶圓適配尺寸、攻堅難點、突破方案，全部標註一清二楚。
在此之前，國內光刻研發完全是盲人摸象式摸索。
在國家戰略級層面的技術研發領域，實際研發時間往往並不是社會公眾表面上看到的，有可能需要往前推二十年，甚至五十年。
這就是民用與戰略級軍用的實際代差，譬如網際網路apant，真正始於 1969年，全球範圍正式開始商業應用為 1995年，相差26年。
東大在光刻機領域卻是真正的從零基礎開始，65型接觸式光刻機自問世以來，一直都在零敲碎打的改進，長期停留在初代接觸式光刻的攻堅階段，精度低、良率差、磨損嚴重。
下一代技術路徑完全模糊，從未能真正的迭代。
全國所有科研院所，都在盲目試探，有人死磕近距離接近式光刻，有人盲目攻堅短波長光源，有人耗費數年打磨機械結構，始終找不到明確的迭代方向，大量人力物力白白耗費在錯誤的技術分支上。
這份來自海外的絕密藍圖，直接給黑暗中摸索的中國半導體，點亮了整條通天大道。
一位深耕光學系統研發三十多年的老專家，國內光學系統的總負責人王知江指尖微微顫抖，扶了扶老花鏡，死死盯著幕布上的迭代鏈路，聲音帶著難以抑制的顫慄：“接觸式光刻——接近式光刻——投影式光刻——步進掃描光刻……他把每一代的迭代邏輯都寫透了！”
他指著路線圖上清晰的節點，呼吸驟然急促。
“我們現在還在死磕接觸式的磨損、對位誤差問題，所有人都以為這就是當前最優解，最多改良最佳化，可這份資料直接點明，接觸式只是過渡，投影式才是大規模量產的核心突破口！”
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身旁負責光源攻堅的雷射材料與光刻光源研究室主任甘福喜猛地前傾身體，雙眼通紅，死死盯著光源迭代一欄，瞬間失聲：“最初的光源路線和理論預研對上，這份路線圖的價值很高，有可能是真的！
從當前主流的汞燈線436nm、線365nm，下一步直接迭代kf準分子雷射248nm，再進階af準分子雷射193nm！每一次波長縮短對應的精度提升、製程升級、晶圓尺寸擴容，全部標註清清楚楚！”
在場所有人渾身震顫。
目前國內學界根本沒有準分子雷射用於光刻的概念，更沒人敢預判波長迭代的完整時序，所有人都被困在傳統汞燈的技術牢籠裡，不知道未來的光源出路在哪。
有時候研究與答案只差那麼一張薄薄的窗戶紙，而現在，有人將答案直接糊在了所有人的臉上。
更讓眾人頭皮發麻的是，藍圖末尾，還提前標註出了無人能預判的顛覆性技術伏筆。
光機所光刻裝置的青年骨幹程照谷驚疑不定的指著藍圖右側，大聲道：“你們看最後！193nm波長之後，不靠繼續死磕極短波長，而是用浸潤式光刻，以高純水替代空氣間隙，
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