回到招待所，林大江把門關上，坐在床邊，意識沉入系統空間。
那條剛秒到的積體電路計算機生產線，靜靜地躺在系統空間裡。
還有全套技術圖紙、裝置清單、工藝引數、測試方案。
密密麻麻，光是目錄就有好幾頁。
他翻到裝置清單那一頁，從頭到尾掃了一遍。
光刻機、離子注入機、高精度擴散爐、等離子刻蝕機.....
每一樣裝置後面都跟著詳細的技術規格。
再看工藝引數。
氧化層厚度、擴散深度、光刻精度、金屬化方案......
每一個引數都精確到小數點後兩位。
這東西，絕不能直接拿出去。
太完整了。
完整到像是從一條已經跑通的產線上直接拆下來的。
不管是韓志國還是孟昭祥，只要看一眼，就知道這不是一個人能研究出來的東西。
他靠在床頭，盯著天花板，心中念頭飛轉：
必須得重新整理。
用自己的語言重新組織，把關鍵引數、工藝流程、裝置規格一條條寫清楚。
讓它看起來像一份花了大量心血的研究手稿，而不是一份現成的技術文件。
他起身坐到桌前，攤開稿紙，從系統空間裡調出資料，一條一條地讀，一條一條地改。
光刻工藝這一塊，系統原文用的是後世的術語：步進式光刻相移掩膜化學機械拋光。
這些詞，1960年的人聽都沒聽過。
他得換成現在的說法：精密曝光多層套刻表面平整處理......
擴散工藝也是。
系統裡寫的是離子注入，但1960年國內連離子注入的概念都沒有。
他改成摻雜擴散，把原理用現在能理解的方式描述出來。
寫到後半夜，稿紙堆了半桌。
他擱下筆，活動了一下發酸的手腕，從頭到尾翻了一遍。
看起來像那麼回事了。
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