第1847章
臺積電手下有成熟的半導體研發技術，楚天耀沒記錯的話，臺積電日後甚至還能掌握EUV光刻機技術，若是他提前出手與臺積電合作，說不定能趁機分一杯羹。
“只是，這臺積電如今發展勢頭良好，又怎麼可能平白無故跟我合作，再說我就這麼去，意圖也太明顯了。”
辦公室裡，楚天耀託著下巴，陷入了思考當中。
他之所以能有今日，並非是因為他天生就比別人聰明，而是楚天耀作為重生者，深度掌握了三十年後的大勢。
光刻機可是高階製造企業的命門，所以他才會如此看重。
而眼下正是各國光刻機發展最為初期的時候，這時候他不想辦法彎道超車，提前入場，只怕再過幾年等米國等國醒悟過來，開始搞技術封鎖，那到時候對華夏而言，才是重大打擊。
“只是，光刻機技術可是核心，阿斯麥雖然不錯但眼下已經被米國把控，再過幾年應該就能生產出高階光刻機了，拿到他們的技術顯然是不可能了，剩下的企業裡，還能做出光刻機的......”
自言自語之時，楚天耀的目光忽然看到了自己桌上的一本雜誌。
那是一本宣傳相機的雜誌，封面上便是來自島國尼康的相機。
“對了，我怎麼把他給忘了。”
楚天耀眼前一亮，這才想起自己差點忘記了一件極其重要的事。
“仔細算算時間，眼下正是157nm光源幹刻法與193nm光源溼刻法的技術之爭的開始，而尼康公司也正是因為押錯了寶，所以才跌落神壇。”
楚天耀神色有些激動，正是因為他重生而來的記憶，讓他又一次敏銳的察覺到了一次巨大的機緣。
說起這157nm光源幹刻法與193nm光源溼刻法，其實只是光刻機兩種不同技術。
放眼九十年代，光刻機的光源波長還被卡死在193NM，成為了全產業的面前的一道難關。
只有將光源波長做的越短，晶片的精度才會越高。
而率先研發出高精度晶片的企業，註定會領跑整個行業，將其他企業牢牢地摔在身後。
而針對這項技術，市面上出現了兩種方法。
那就是157nm光源幹刻法與193nm光源溼刻法。
尼康等公司主張在前代的技術基礎上，採用157NM的F2雷射，走穩健道路。
而新生的EUVLLC聯盟，則押注於更激進的極紫外技術，用僅有十幾奈米的極紫外光，刻十奈米以下的晶片製程。
但不管是這兩種技術中的哪一種，技術要求都極其不易。
然而在這個時候，臺積電一個叫做林本間的鬼才工程師出現了。
降低光的波長，光源出發是根本方法，高中學生都知道，水會影響光的折射率。
在透鏡和矽片之間加一層水，原有的193nm雷射經過折射，不就直接越過了157nm的天塹，降低到132nm了！
林本間拿著這項沉浸式光刻方案，興奮的跑去了米國、德國以及島國，遊說各家半導體巨頭。
然而他的方案最終並沒有得到認可，甚至還有不少人覺得這傢伙就是來搞事的，甚至不止一次警告臺積電。
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