《黑科技從刷題開始》第48章 新工藝解鎖(1)

作者:夢凝寒·3個月前

陳序抿了抿嘴,指尖在面板上點了一下“查閱”按鈕。

密密麻麻的文件瞬間鋪滿了整個面板。

他先掃了一眼目錄。

核心架構設計。

IP核自主開發方案。

後端佈線全流程規範。

封裝測試適配標準。

每一項下面都列著上百個子文件,連最細的引腳排布引數都標得清清楚楚。

陳序往下翻了幾頁,指尖越點越快。

他之前還擔心,解鎖的藍圖會不會有境外專利的坑。

畢竟芯盟在這方面卡得死,稍微碰一點他們的專利,後續量產就能給你告到破產。

翻完核心架構的前三個文件,他懸著的心徹底落了地。

所有設計都是全新的思路,連邏輯閘的排布方式都和市面上現有的方案完全不一樣。

更絕的是,整個設計的工藝視窗,剛好和他之前最佳化的14nm刻蝕工藝引數完全匹配。

不需要改任何現有的產線裝置,首接就能用。

陳序搓了搓手,忍不住吹了聲口哨。

這哪是普通的基礎藍圖。

這是把飯喂到嘴邊了。

之前國內搞14nm晶片,最卡脖子的就是設計環節。

刻蝕工藝突破了,光刻膠也有替代方案了,結果設計層面要麼繞不開專利,要麼效能跟不上市場需求,折騰了大半年都沒拿出能落地的方案。

現在倒好。

全套晶片設計藍圖首接砸到了手裡。

陳序抬頭看了眼牆上的掛鐘,時針剛指到九點。

他沒猶豫,首接點開系統的藍圖推演最佳化功能。

之前升級系統的時候提示過,這個功能可以根據現有工藝引數,對藍圖進行定向最佳化,就是要消耗學識點。

面板跳出來一個提示框。

【是否消耗5000點學識點,對14nm晶片設計基礎藍圖進行推演最佳化?】

陳序點了“是”。

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