但是韓文韜記得……前世盤點阿斯麥的時候，EUV光刻機是2002年，也就是今年才取得突破。
製作出第一臺工程樣機。
這一臺樣機，只是用來驗證技術的，根本沒辦法使用。
真正第一臺EUV光刻機發布，是2001年！
真正交付第一臺EUV光刻機是2013年。
真正使用上EUV光刻機的，是臺電的16奈米Fi工藝。
大規模使用EUV光刻機是2017年的7nm工藝，以及後續的5nm工藝！
“要不彎道超車？從KrF光刻機跳到EUV光刻機？”
“資金不是問題，技術有些問題……但投入海量資金情況下，加上時間是能解決的……最重要的是專利！！！”
“還有多重曝光技術的專利！”
“這時候還沒人去研究EUV的光刻膠吧？專利都可以先佔著！”
對於別人來說，從從KrF光刻機，跳到EUV光刻機？
KrF光刻機還在0.8um，中間隔了0.5um、0.35um、0.25um、0.18um、0.13um……甚至今年90nm！
僅僅是光源系統：從0.8微米時代主要用g-line（436奈米波長） 汞燈；到而0.13微米必須使用KrF（248奈米波長） 準分子雷射器。
真正奈米級支撐，還得ArF（193奈米）！
這其中不僅僅是光源的變化，還有整套物鏡系統的變化。
然後面臨經費問題……首接從KrF光刻機，跳到EUV光刻機，需要多少年？
阿斯麥第一臺驗證機到交付，近20年的時間！
沒有任何一家公司，十幾二十年不要營收和利潤，投入千億美刀的海量資金，去研究一個專案！
但是對於韓文韜來說，其實還好！
資金問題，最不用擔心。
EUV的核心部件：光學系統、物鏡系統、工作臺。
光源方面，目前主流是248nm的KrF氟化氪，以及193nm的ArF氟化氬準分子雷射器。
光學系統是由20-30枚超大尺寸鏡片組成，需要以原子級精度（亞奈米級）對準，且鏡片內部應力必須完全消除。
韓文韜可以使用【原子重組】的能力，製造出無缺陷的單晶氟化鈣。
這是深紫外雷射的核心晶體，其內部晶格完美，能讓雷射的透過率和穩定性達到極限。
對於光學鏡片，他能消除石英玻璃內部的微氣泡和應力，透過在原子精度排布矽和氧原子，製造出非球面鏡片，提前解決球面像差問題。
至於工作臺，他可以用極限工藝，打造出剛性達到理論極限的工件臺，讓晶圓在奈米級運動中穩如泰山。
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