光刻機專案就放在【北辰精密】。
光刻機也精密裝置嘛！
而且，【北辰精密】這邊許多技術和裝置，光刻機上是用得上，能更快、更高效地為光刻機團隊提供解決方案。
“目前，我們己經購入多臺0.25um光刻機……其中部分放在晶圓廠使用！”
“會拿兩臺出來做研究。”
“我先說一下短期目標和長期目標……”
“短期目標，將目前光刻機使用的i-line的365nm光源，升級成KrF（氟化氪）248nm光源、或者ArF（氟化氬）193nm光源！”
“我個人傾向於後者，一步到位，難度並不會很高！”
目前，0.25um的光刻機……或者之前使用的光刻機，基本都是365nm的i-line（汞燈譜線）。
波長365nm，精度不夠，0.25um工藝基本己經是極限。
後面0.25um以上更先進的工藝，就需要全新的光源。
KrF（氟化氪）是248nm的光源，精度比365nmi-line（汞燈譜線）更高，1988年由尼康推出首款商用KrF光刻機。
依舊是十幾二十年前的技術了。
就這……國內也還沒用上。
不是做不出來，而是用不上……光刻機沒有達到這個水平。
而ArF（氟化氬）準分子雷射，它是193奈米的波長，是目前全球最頂尖的技術。
去年用Gigaphoton推出首款量產的ArF雷射器。
前世，晶片和光刻機被封鎖有多嚴重？？
盤點過光刻機的韓文韜，當然知道ArF光源的光刻機更先進，是90nm工藝以及更先進工藝的必須技術。
能一首用在7nm！
所以他推薦後者：ArF光源。
當然，這是短期專案。
“長期專案，我們要研究的是——EUV極紫外光源！”
EUV極紫外光源。
這是下一代光刻機的研發方向，是全世界基本己經摸索出來的方向。
但是難度……非常高！
這需要人為去製造一種自然界不存在的‘光’，這種光還極易被任何物質吸收。
即便是空氣！
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