從相控陣雷達的基礎原理，再到有源相控陣雷達的構造，從材料到電路，從元件到晶片，以及未來發展方向····姜競株沒有絲毫隱藏，深入淺出，講得細緻清楚明白，她很願意，把這些有用的理論和技術，進行有效傳播。
作為學習的聽眾，沈彬眾人彌足感動，競株同志不止才能超絕，天縱之才，對他們更是無私指導，誨人不倦，最耐心的老師也不過如此。
無論問題鉅細，都能準確、詳實地解答，甚至延伸可行方向。這些學習，將會給他們帶來不知多少的改進靈感！國內雷達事業，將會就此飛騰變革！
對於姜競株來說，她一個人不可能做所有的事情，她想要做的事情太大太廣，不會侷限於雷達領域太久。而這些人，才是真真正的雷達人，是屬於雷達發展的堅實根基，挑起國內雷達發展重擔的民族脊樑。
在曾經沒有她這個蝴蝶翅膀的時候，國內雷達是他們篳路藍縷，打造開創出屬於他們雷達的輝煌，與國際先進接軌，最終超越的奇蹟。
姜競株傾囊相授，想以微薄之力，助力這些真正的雷達人，半導體先輩，能夠在更快的時間，開創更高的輝煌，讓他們的雷達、他們的半導體，甚至他們的原料提取···都更早的屹立東方，神龍騰飛，無人再敢略其鋒芒！
在傳道受業的過程中，姜競株同時帶領眾人，將專案所能用到的材料，一一合成出來，銻化銦、砷化鎵···這些他們不一定全部用得到，但是姜競株知道合成方法，也做示範例子演示給大家。
姜競株秉持著不浪費原則，他們可以不用，但是技術儲備他們還是要有的。
沈彬等人第一次覺得，他們的資源是如此富裕幸福！有這麼先進的技術理論可以學習，有這麼多豐富的材料製備可以擁有，有這麼出眾的人物手把手指引···
想想他們起步雷達研發，沒有圖紙，拿著望遠鏡觀察隔壁家雷達形狀逆推的艱辛，他們比那掉進米缸的老鼠，還要倍加幸福！
材料到位，各個元件手稿上線，一樣樣元件進入加工流程，沈彬攬過這一塊的跟進工作。這些元件手稿，還有雷達設計手稿，每一張，在他看來都是無價之寶，每一張，都是他們要百般學習研究的精髓。
同時，姜競株開始協同林雙芝，汪氏兄弟做積體電路晶片。接觸式光刻機已經協調到位，目前的技術能夠勉強光刻，但是達不到她的需求。在進行晶片光刻之前，姜競株還需要對這部光刻機進行改進。
後世，半導體產業的璀璨星河中，光刻機無疑是最為耀眼的星辰之一。它不僅代表著半導體制造技術的巔峰，更是全球科技競爭的重要戰場。
看著這部相當原始的65接觸式光刻機，姜競株眸中閃過一絲複雜之色。國家的發展，從來不是順風順水。他們能夠安詳和平盛世，是有不知多少人高瞻遠矚，負重前行。
在這麼早的時候，他們已經有了和國際接軌的先進技術，此時，距離光刻機巨頭AS的成立還有近20年的時間。可以說，在光刻機研發的起跑線上，國內已經佔據了先機。
只是後面國內舉步維艱，無奈變革，才有了後面的奮起直追。光刻機研發團隊並沒有放棄。他們憑藉著堅韌不拔的毅力和對科技的無限熱愛，不斷攻克技術難關，取得了長足的進步，他們的晶片也從無到有，自力更生，走到國際先進，不再被卡脖子！
後世記憶中，姜競株對光刻機雖然沒有主要研究，但是作為後世發展重中之重的物件兒，她自然也不陌生。
光刻是透過曝光在矽晶圓上的掩膜版上印製一些更精細的圖形，所以又稱為掩膜對位曝光機。
晶片的製作極其複雜。上面的線條都是以n單位的。普通的刻刀材料根本無法在晶片上操作，於是光刻機誕生了。
同時，光刻機是大規模積體電路生產的核心裝置，一般採用紫外線將光刻版的圖案轉移到晶圓在表面的光刻膠上，晶圓是製作晶片的基板，是後續工作要完成的基礎。
它結合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟體和影像識別···從理論到技術，都代表著精簡段科研技術集大成融合之作，這不是一臺普通機器，而是一個諾大的系統工程。
整合線路晶片是他們必須得攻克的新技術，想要達成這個目標，光刻機的改進，是首要前提條件。感謝，她意外覺醒前世記憶，很多在這個時候渺茫難測，困擾重重的技術，在後世資訊大爆發，有不少都是公開資訊。
哪怕沒有詳細的技術資料，但是那些明確技術，已經可以作為方向性的指引。
光刻機的作用是掃描曝光晶片晶圓，刻蝕積體電路。精度越高的光刻機，能生產出奈米尺寸更小，功能更強大的晶片。小於5奈米的晶片晶圓，只能用EUV光刻機生產。
EUV光刻機，正規稱呼應該是極紫外線光刻機。
以波長為10~14奈米的極紫外光作為光源的光刻技術，該裝置當前可被應用於14奈米及以下的先進製程晶片的製造，後世資料顯示，具體為採用波長為13.4n紫外線。極紫外線就是指需要透過通電激發紫外線管的K極然後放射出紫外線。
幾乎所有的光學材料對13.5n長的極紫外光都有很強的吸收，因此，EUV光刻機的光學系統只有使用反光鏡···
有這樣還算明確的方向指引，細緻推導應用技術，對姜競株來說，也就是不斷的模擬嘗試，花費些時間出結果的過程。
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