“砰！” 羅朝斌忍不住拍了下桌子，想罵一個馬勒戈壁的。
但臉上怒容一閃而逝，最終化為沉重的嘆息。
“所以，” 孟良凡雙手撐在桌面上，語氣充滿了不甘卻又無比堅定，“我們只能，也必須，在現有的DUV光刻機上，進行極限操作，走一條無比艱難、但充滿智慧的‘迂迴之路’！這就是N+1、N+2！”
他開始深入解釋N+1工藝的本質和巨大挑戰：
“N+1，本質上是在我們14nm Fi工藝平臺上，透過一系列登峰造極的‘技術魔術’去無限逼近更高製程的效能。當然這裡面的核心就是多重曝光。”
他用了一個形象的比喻：
“這就好比，別人開著裝備了頂級GPS和引擎的越野車（EUV）在平坦大道上飛馳。
而我們，被沒收了關鍵裝備，只能開著一輛效能不錯的家用轎車（DUV）。
但我們憑藉對地圖的極致研究（物理和工藝理解）和超凡的駕駛技術（多重曝光等複雜工藝），硬是要在一條佈滿巨石和深坑的崎嶇山路上，蹚出一條能到達目的地的通道。”
“代價是什麼？” 孟良凡自問自答，語氣沉重。
“代價是工藝步驟複雜度成倍增加，生產週期大幅拉長，初始良率慘不忍睹，以及單個晶片成本的急劇飆升！
代價是在馮總和陳總不遺餘力的配合下，今年3三月把良品率才很勉強得提高到了68%，目前還在艱難爬坡中！
這是一種‘笨’辦法，一種‘苦’辦法！
但，這是我們唯一能掌握能通向自主高階的生命線！”
他看向汪劍鋒，又看向陳默：
“所以，汪總，您問最大的挑戰和需要什麼支援？
挑戰在於，我們需要在工藝、設計、工具鏈三個維度，同時進行極限突破，容不得任何一塊短板！
需要的支援是，集團必須持續給予我們超越常規的耐心、資源和政策傾斜，理解並接受N+1初期在成本和效率上的‘不完美’。”
孟良凡的陳述，將N+1之路的艱難與決絕展現得淋漓盡致。
他將目光投向陳默，眼神中充滿了“神兵利器”的渴求，也帶著並肩作戰的戰友的期待與挑戰。
“陳總，” 孟良凡的語氣無比鄭重。
“您也知道N+1的艱難。
這條路，對EDA工具鏈的要求，是顛覆性的。
它要求工具不再是被動適應規則，而是要主動驅動設計、預測製造、賦能工藝！”
他轉向全場，詳細列舉出N+1給EDA帶來的具體、嚴峻的挑戰，每一項都首指核心：
“第一，設計規則的複雜性與強制性。
多重曝光導致設計規則數量爆炸式增長，且規則之間關聯性極強。
EDA工具必須能理解、消化並強制推行這套‘天書’，還能智慧識別和規避規則衝突，否則版圖根本無法制造。”
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