“最後，是關於基於大資料的智慧良率預測與最佳化。”
陳默放出終極“大招”。
“流片前的良率預測，一首是行業黑盒，賭的成分很大。
但現在，我們有了‘洞察’（Insight）系統。”
螢幕上展示出一個動態儀表盤，即時顯示著一個虛擬晶片設計的預測良率曲線，以及影響良率的關鍵因子排序。
“‘洞察’系統整合了設計資料、來自孟教授團隊和李維明團隊工藝模型、甚至歷史的流片資料。
它利用圖神經網路和時空預測模型，能在設計完成度70%時，精準預測最終良率，準確率目前達到85%以上，並能定位出75%以上的良率殺手。
而且在成熟工藝節點上，其預測趨勢與實際良率趨勢吻合度超過90%。
我們計劃在N+1的首個測試晶片上就全面部署，在實踐中錘鍊它！”
陳默目光掃過眾人，語氣帶著蠱惑人心的力量：
“這意味著什麼？
意味著在投入天價流片費用之前，我們就能提前發現設計缺陷和工藝匹配問題，指導設計最佳化和工藝微調。
這將把N+1工藝的良率爬坡週期，至少縮短30%-50%！
這不是成本最佳化，這是戰略級的效率革命！”
他總結道：
“數字後端與AI驅動研發部，不僅僅是攻堅了數字後端。
他們打造的AI驅動引擎，是我們整個EDA工具鏈的‘智慧大腦’和‘效能倍增器’。
他們讓張哲博士的鋒利尖刀更精準，讓李維明博士的堅實根基更穩固。
最終讓我們華興的晶片設計，從一門高度依賴經驗的‘藝術’，開始轉向一門可預測、可最佳化、高效率的‘科學’！”
陳默緩緩坐下，平靜地看向孟良凡和馮庭波：
“孟教授，馮總，現在回到您最初的問題——我們準備好了嗎？”
他頓了頓，聲音不大，卻擲地有聲：
“我們不僅準備好了工具，我們正在重新定義規則。
N+1不是我們的終點，而是我們憑藉這套完全自主、AI原生的EDA體系，向著更先進的N+2、甚至N+3製程發起衝鋒的起點。
華興的晶片之路，前方或許依然艱難，但工具在手，利器在握，我們，無所畏懼！”
整個會議室陷入了短暫的沉寂，隨即，鄭非率先鼓起掌來，徐平、姚塵風、馮庭波......
所有人都發自內心地送上掌聲。
陳默這番有資料、有演示、有成果的“裝逼”，不僅回答了孟良凡的問題，更是將華興在EDA和晶片設計上的雄心與實力，展現得淋漓盡致。
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